反应离子刻蚀机(RIE)
仪器预约
通过平板电极间施加射频电压，利用产生的等离子体对样品进行化学和物理刻蚀。
样品要求：半导体或者电介质材料
样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
所用到气体：H2，CHF3，Ar2，O2，SF6等
主要用来等离子刻蚀除胶，去除掉不需要的部分。
RIE反应离子刻蚀机使用说明.pdf
地址：上海市东川路800号理科实验楼群邮编：200240
沪交ICP备05010 © 上海交通大学物理与天文学院 版权所有
微信公众号
微视频
